收藏词条 编辑词条 哈氏槽试验
创建时间：2010-04-01
哈氏槽试验做为研究开发，电镀工厂管理、电镀实验极有价值。其主要目的可分，
(1) 测知以理论调配之镀浴之电镀实用范围。
(2) 分析镀浴组成，添加剂、杂质的变化或影响。
哈氏槽可用于下列之管理：
(1) 用化学分析求不出的成份。
(2) 用化学分析太费时间的成份。
(3) 非常微量就会影响电镀的成份。
(4) 固障的分析及预测。
从哈氏槽试片可观查分析出：
(1) 不同电流密度之镀层变化。
(2) 镀浴温度之影响。
(3) 镀浴性能的变化。
(4) 镀浴成份变化的影响。
(5) 镀浴中杂质的影响。
(6) 镀浴中添加剂的影响。
(7) 镀浴的覆盖力。
(8) 镀浴的均一电著性。
(1) 测知以理论调配之镀浴之电镀实用范围。
(2) 分析镀浴组成，添加剂、杂质的变化或影响。
哈氏槽可用于下列之管理：
(1) 用化学分析求不出的成份。
(2) 用化学分析太费时间的成份。
(3) 非常微量就会影响电镀的成份。
(4) 固障的分析及预测。
从哈氏槽试片可观查分析出：
(1) 不同电流密度之镀层变化。
(2) 镀浴温度之影响。
(3) 镀浴性能的变化。
(4) 镀浴成份变化的影响。
(5) 镀浴中杂质的影响。
(6) 镀浴中添加剂的影响。
(7) 镀浴的覆盖力。
(8) 镀浴的均一电著性。