真空蒸发镀膜法

这一方法是湃澎霍夫1960年首先提出使用的。所用的设备简图如图1所示，把抛光的试样面对盛放蒸发材料的高熔点舟的对面，抽真空到达约5*10^-6mm汞柱（10^-5mbar），电阻加热，当达到所要求的温度，镀膜材料蒸发，均匀地沉积在试样表面，给定的蒸镀时间或膜厚监测标志达到后，关闭电源停止蒸发过程。也可在蒸发过程改变加热电流，调整蒸发速度，得到最佳蒸发镀膜。为了得到楔形镀膜，试样表面的安放应与蒸发轴成一定角度。如果试样要得到均匀镀膜，试样要垂直于蒸发轴，如图1所示。

图1    真空蒸发镀膜的设备简图