化学抛光

        化学抛光是试样浸入适当的抛光液中，不需要应用外电流，进行表面抛光的方法。试样经砂纸磨光到粒度号320，清洗干净放在抛光液中，摆动试样，几秒到几分之后，表面的粗糙痕迹去掉，得到无变形的抛光面。清洗干净后即可在显微镜下检验。化学抛光过程兼有化学腐蚀。

化学抛光应用于金相样品的制备已有三十多年，但直到现在还没有一个确切解释这个过程的理论。一般认为与电解抛光相类似。化学抛光的溶液差不多总是包含有氧化剂，例如硝酸，硫酸、和铬酸或过氧化氢。也含有粘滞剂，控制扩散和对流速度，使化学抛光过程均匀地进行。经试验能用化学抛光的材料日益增多，尤其是纯金属。

钢铁材料应用化学抛光亦取得了良好的结果，拜佳德1952年用硝酸（30ml）-氢氟酸（70ml）-水（30ml）的溶液抛光纯铁和低碳钢，赛克斯1955年用草酸（25g）-过氧化氢（10ml）-硫酸（1滴）-水（1000ml）溶液对碳钢进行了化学抛光。这些试验都取得成功。随后许多金相工作者，也用化学抛光对各种钢材进行试验，都各有结果，柯瑞斯特等1973年把区域提纯的铁、电解铁和0.08%C钢，经粒度号600的碳化硅砂纸磨光后，用过氧化氢（30%浓度的H₂O₂80%）-氢氟酸（48%浓度的HF5%）2蒸馏水（15%）溶液，擦抹抛光后，得到良好的金相检验表面。奈斯特等，1976年用这种溶液对低合金高强度钢（HSLA）进行化学抛光和化学抛光减薄，取得好的结果。

化学抛光的优点是简单，不需要什么特殊设备，只需要一个盛抛光液的玻璃杯和夹持试样的夹子就可以了。如果用细薄磨料片切割的试样，切割后不需要砂纸磨光，即可直接抛光。有些非导体材料也可以用化学抛光。非导体嵌镶的试样也可以直接抛光。化学抛光的缺点是：抛光液消耗得快；试样的棱角易浸蚀；抛光的表面光滑，但易出现不平坦，高倍检验受到限制。

化学抛光实际上现在应用得不够广泛，这可能与所发表的成熟的抛光规范有限和金相检验工作者对这个方法的了解不够有关。